≪酸化セリウム研磨材での遊離砥粒研磨法≫
液晶パネルやマザーガラス、フォトマスクガラス、各種ハードディスク基板、光学レンズなどの
生産工程において、表面精度向上のため使用されるのが、酸化セリウム研磨材(遊離砥粒)です。
これを水に混ぜて分散させたもの(スラリー)で研磨することを遊離砥粒研磨法といいます。
酸化セリウムは、ガラスの主要構成元素である二酸化ケイ素と化学的に反応する性質があり、表面を改質(軟らかくする感覚)することにより、物理的研磨とは違う表面状態が得られるため、CMP研磨(Chemical Mechanical Polishing:化学的機械的研磨)と言われています。
≪アウトランがご提供出来る製品とサービス≫
国内メーカー品、中国優良メーカー品、欧米メーカー品、オリジナル開発品まで、豊富な品種を取り扱うことにより、豊富な業種への
対応が可能。トン単位を使用する大手工場への供給対応(BtoB)から100g単位で使用したい一般ユーザー(BtoC)への販売まで、
他社には出来ないきめ細やかな対応が可能です。研磨材だけではなく、レアアースとしての酸化セリウムも幅広く取り扱っております。
中国有料メーカーと共同で日本向けに開発された製品をはじめ、輸入後にはロットごとに実機による研磨を行い、品質検査を実施。
ユーザーへの定期的インタビューなどでも確認しております。
原料(酸化セリウム)の最大供給国である中国の動向を定期的にチェック。不測の事態に備えて中国メーカー品は輸入ルートの
多様化、国内メーカー品は原料酸化セリウムの国内確保に努めております。
平面研磨、端面研磨などの機械系研磨工程から、ハウスクリーニングやカーディテイリングまで様々な情報提供が可能です。
ガラス研磨に関係するアイテム(研磨装置・洗浄機などの機械系、砥石・パット・キャリアなどの消耗資材系)にも精通しております。
研磨作業の周辺情報(ワーク、キャリア、装置、資材など)並びにご要望(面粗度向上、タクト向上、価格低減など)を頂ければ、
的確に研磨材を選定するとともに、研磨全般に関するご提案も致します。お気軽にお問い合わせ下さい。
≪アウトランが取り扱うセリウム研磨材の特徴≫
【成 分】
【粒 径】
シングルナノ(10nm以下の粒子径)から最大18µmまで対応しております。
【粒度分布】
粒径分布幅の広いブロードタイプから中心粒径に集中させた製品、
結晶子サイズにまで拘った製品など、ユーザーニーズに合わせた粒度選定が可能です。
【面粗さ】
求める面粗さにより細かく対応致します。また、大きい粒子による研磨傷の低減も可能です。
【硬 さ】
焼成温度の調整により、軟らかいものから硬いものまで硬度をお選び頂けます。
【供給体制】
国内メーカーとともに原料である酸化セリウムの在庫確保にも取り組んでおります。
海外製品は、流通ルートの多様化など危機管理に注力しております。
【納入実績】
液晶パネル、石英マスク、光学レンズ、建築用ガラスなどの研磨。ハウスクリーニング、
カーディテイリング、ガラス工芸などの傷取り、汚れ取り、光沢出し。
固体酸化物燃料電池の支持体材料。
≪酸化セリウム研磨材の品種≫
*製品名をクリックして頂くと、製品の特徴がご覧頂けます。*
C-POLISH58ブランド・OPPシリーズ
アウトラン向けオリジナルシリーズ
高純度酸化セリウムパウダー
セリウム研磨材他社製品
コロイダルセリウム研磨材
高分散セリウムスラリー&ペースト
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